В Московском физико-техническом институте разработали литограф, предназначенный для создания трёхмерных микроструктур, элементы которых будут иметь размеры 150 нм при разрешении 350 нм. Источник изображения: Opt Lasers / unsplash.com
Источник: 3DNews - все новости сайта
