Китайская компания Hefei Lumiverse Technology представила первый в мире настольный источник экстремального ультрафиолетового излучения (EUV) на основе генерации высоких гармоник (HHG), который уже используется на производстве для выпуска 14-нм чипов. В отличие от гигантских литографических машин ASML стоимостью более $100 млн и размером с автобус, новое устройство помещается на обычном лабораторном столе и стоит в сотни раз дешевле. Источник изображения: Hefei Lumiverse Technology
Автор публикации
Для многих IT-консалтинг – это что-то непонятное и мифическое, но всё намного проще, чем кажется)
Источник: 3DNews: