Китай запасся сотнями литографов ASML — их хватит для массового выпуска 7-нм ИИ-ускорителей на годы вперёд

Китайские производители чипов накопили сотни иммерсионных литографических установок ASML, работающих в глубоком ультрафиолете (DUV). Хотя они уступают передовым EUV-системам, такое оборудование можно использовать для выпуска 7-нм логических чипов и памяти для ИИ-ускорителей. Часть установок, приобретённых для зрелых техпроцессов, может быть перепрофилирована под более передовое производство — это поддерживает полупроводниковые амбиции Китая даже в условиях экспортных ограничений. Источник изображений: asml.com

Автор публикации

не в сети 3 года

WeLANS

Для многих IT-консалтинг – это что-то непонятное и мифическое, но всё намного проще, чем кажется)
Комментарии: 0Публикации: 48945Регистрация: 15-12-2022

Источник: 3DNews:

Ответить

Этот сайт использует Akismet для борьбы со спамом. Узнайте, как обрабатываются ваши данные комментариев.

Авторизация
*
*
Регистрация
*
*
*
*
Пример: +79001234567
Генерация пароля